高精密光學(xué)玻璃被常用來制作隱形雷達(dá)探照鏡、偵查衛(wèi)星照相機(jī)鏡頭、高速飛行器窗口以及激光發(fā)射裝置中的光學(xué)透鏡、棱鏡等超精密零件等應(yīng)用中，隨著各類的高精密光學(xué)玻璃的應(yīng)用，在對(duì)光學(xué)玻璃拋光中對(duì)拋光粉的要求也非常高，以下總結(jié)了下光學(xué)玻璃拋光粉的基本要求

　?。?）微粉粒度精細(xì)、均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)；

　　（2）有較高的純度，不含機(jī)械其他雜質(zhì)；

　?。?）有非常好的分散性，以確保在加工過程的高效、均勻，可適當(dāng)添加分散劑提高懸浮率；

　　（4）微粉粒需要有一定的晶格形態(tài)，破碎時(shí)形成銳利的棱角，以提高拋光效率；

　　（5）有適當(dāng)?shù)拿芏群陀捕?，與水能有很好的浸潤(rùn)性及懸浮性，拋光粉需要與水混合

　　粒度越大的拋光粉，磨削力越大，越適合于較硬的材料，要注意的是，所有的拋光粉的顆粒度都有一個(gè)分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的最大顆粒。

　　拋光粉的真實(shí)硬度與材料有關(guān)，如氧化鋁型的硬度就是莫氏硬度9左右，各種氧化鋁都差不多。但不同的氧化鋁給人感覺硬度不同。由于燒成溫度不同，團(tuán)聚體的強(qiáng)度也不一樣，因此使用時(shí)會(huì)有硬度不一樣的感覺，產(chǎn)品表現(xiàn)出來的磨削率和耐磨性都會(huì)不一樣。這個(gè)需要有經(jīng)驗(yàn)的生產(chǎn)工廠根據(jù)拋不同物質(zhì)去控制。拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時(shí)，漿料濃度因適當(dāng)調(diào)低，以得到合適的流動(dòng)性，一般建議在7-10%就可以了。